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提供從器件研發到批量生產的全流程裝備解決方案
管式熱工設備 立式爐
批式垂直結構熱處理設備，適用于 8 英寸及以下晶圓的高溫工藝設備，可實現擴散、氧化、退火等關鍵制程，特別設計為科研機構提供靈活工藝驗證平臺。
詳情 >
管式熱工設備 臥式爐
專為科研機構和高校設計的小批量高精度設備，支持氧化、擴散、退火、LPCVD 等工藝，兼具生產、實驗教學與工藝開發功能。
PVD 磁控濺射鍍膜機
運用物理氣相沉積（PVD）方法，用來在基片表面沉積各種金屬、合金、氧化物、氮化物等薄膜。提高了沉積效率和膜的質量。沉積速率快、沉積溫度低、膜附著力好、密度高、均勻性好。
干法刻蝕 反應離子刻蝕機(RIE)
基于射頻放電原理的干法刻蝕設備，通過物理轟擊與化學反應結合實現材料去除，適用于多種半導體材料刻蝕。
干法刻蝕 離子束刻蝕機(IBE)
采用離子束物理刻蝕技術，適用于難刻蝕材料的高精度加工，尤其在金屬、陶瓷等硬脆材料處理上具有獨特優勢。
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